Химия для травления
Дополнительная Химия для травления магния:
|
Наименование |
Назначение |
Расход |
Упаковка |
|---|---|---|---|
|
Проявитель Stereogemisch, Wegalin |
Предназначен для проявления фоторезиста Mangeta |
1 упаковка рассчитана на проявление 40-50 пластин формата 650х500 мм |
20 л. |
|
Проявитель трихлорэтилен (C2HCl3) |
Предназначен для проявления фоторезиста Mangeta |
Производства России |
1 л.(1.5 кг) |
|
Лак для ретуши |
Предназначен для ретушировки пластин после проявки |
0,5 л. |
|
|
Растворитель для ретушного лака |
Растворяет ретушный лак для регулирования его плотности |
0,25 л. |
|
|
Удержатель влаги VISKO |
Предназначен для обезжиривания поверхности пластины перед помещением ее в травильную ванну. Уменьшает вероятность появления "островков". |
Разводится с водой в соотношении: 30 мл. VISKO на 1 л. воды. Расходуется в зависимости от количества, необходимого на обработку пластины ватным тампоном. |
1 л. |
|
Удалитель слоя Ship-shape |
Предназначен для удаления фоторезиста с клише после его травления |
Рассчитан на обработку 20 пластин формата 650х500 мм. Пластина погружается в препарат на 4 мин., затем обрабатывается жесткой щеткой. |
5 л. |
|
Удалитель слоя Hydro-Coat Top Remover |
Предназначен для удаления фоторезиста с клише после его травления |
Пластина погружается в препарат на 4 мин., затем обрабатывается жесткой щеткой. |
18,9 л. |
|
Защита боковых поверхностей RevFlex |
Добавляется в травящий раствор для получения необходимого угла травления |
Добавляется в травящий раствор в количестве 3-4% от общего объема растовора |
18,9 л. |
|
Азотная кислота (HNO3) 70.9% - ОВЧ |
Основная составляющая раствора для травления |
Производства России |
1 л.(1.5 кг) |