Технология проявки позитивного фоторезиста
Рекомендации по процессу предварительно очувствленных позитивных пластин Revere.
Введение.
Многие машины для изготовления клише известны в работе с негативным фоторезистом. Негативный фоторезист экспонируется в УФ-свете. Экспонированные участки становятся непроницаемыми для проявляющего раствора и химикатов для травления.
Позитивный фоторезист работает по противоположному способу. Когда позитивный фоторезист экспонируется УФ-лучами, экспонированные области могут быть легко удалены проявителем на водной основе, согласно нарушениям химической связи. Поверхность металла, экспонируемых областей, очищается до неэкспонированных участков, оставшихся защищенными. Продукция Revere POS-E разработана для изготовления клише и применяется в производстве травления клише для глубокой печати при использовании негативной пленки и проявителя на водной основе. Безотлагательный успех использования продукции Revere POS-E состоит в:
- уменьшение пыли связанное с дефектами и устранение промежуточной пленки, используя негативную пленку для травления при высокой печати.
- Хорошая разрешающая способность. Геометрический размер при травлении маленький, 5 микрон.
- Превосходное исполнение поверхностного травления.
- Использование раствора проявителя POS-E Aqueous.
- Легкая промывка фоторезиста после травления.
Так как мы применяем одинаковый позитивный фоторезист к различным металлам, ко всем предварительно очувствленным пластинам POS-E подходят те же рекомендации к экспонированию и проявке. Эти рекомендации детально расписаны ниже. Различие в процессах различных продуктов POS-E начинается с процесса Descum. Рекомендации по процессу Descum будут расписаны для каждого продукта.
Экспозиция.
Покрытие позитивного фоторезиста чувствительно к числу световых источников, включающих: угольный стержень дуговой лампы, импульсный ксенон, ртутный насос и металлическую галогеновую лампу. Экспозиция пластины требует вакуумную раму и точечный источник света, чтобы добиться наилучшего воспроизведения деталей.
Травление пластины защищено черной полиэтиленовой пленкой, чтобы защитить от случайного экспонирования и нарушения поверхности. Пластины должны остаться закрытыми до экспонирования.
Для определения оптимального времени экспонирования для предварительно очувствленной продукции POS-E при вашем источнике света, используйте шкалу чувствительности “21 шаг” и сделайте серию отдельных экспозиций. Будьте уверены, что замаскировали пластину вокруг тестируемой области экспонирования. Начните со времени экспонирования 30 сек., и при каждом получившемся экспонировании увеличивайте время вдвойне, до 4-х минут. После следующих рекомендаций по проявке пластин проверьте тестируемые пластины. Оптимальное время экспонирования будет обнаруживать "чистый" шаг 2 или 3 с "нарушенным" шагом 3 или 4. Это очень важно - периодически использовать шкалу чувствительности для нахождения пятен. Мы строго рекомендуем проводить эту процедуру хотя бы раз в день.
Эти рекомендации применимы ко всем предварительно очувствленным пластинам Revere POS-E.
Проявка.
После экспонирования пластина должна быть проявлена. Проявитель Revere POS-E-PLATE прост в использовании, который выдает отличные результаты, используя любой из следующих методов: кювета для проявления, ванна для окунания пластины или разбрызгивание спрея.
ЗАМЕЧАНИЕ: Металлический контейнер должен быть из нержавеющей стали. Не используйте алюминий. Когда используете спрей, можно использовать замедлитель пены. Связывайтесь с Revere для большей информации.
Чтобы сделать рабочий раствор проявителя POS-E-PLATE, смешайте одну часть концентрации с 6 частями воды. Когда используется 70 0F проявитель берет место в пределах 1-3 минут, в зависимости от используемого оборудования. При погружении в поддон или кювету, рекомендуется использовать мягкую мешалку. Для более быстрой проявки пластины, 6:1 раствор подогретый до 90 0F обеспечивает время проявки меньше, чем одна минута.
После проявки пластины, вытащите их в холодную воду. Сухую пластину тщательно просушить сжатым воздухом или промокательной бумагой.
Процесс Descum.
Рекомендуемый раствор для процесса Descum предварительно очувствленных пластин меди, олова и стали просто 30 град. Baume (300) хлорид железа.
POP-E-COP. Традиционный раствор Descum не должен использоваться.
POP-E-BRASS. Не используйте соль (хлорид натрия). Работайте в чистой кювете, используя стандартную офсетную подкладку и хлорид железа, мягкий тампон на светлую поверхность пластин.
POP-E-STEEL. Повторяющееся нанесение может быть необходимо для более больших пластин.
POP-E-MAGNESIUM. 7% азотной кислоты + 93% воды
После процесса Descum выньте пластины в воду.
В конце, гуммиарабик или другие защитные растворы могут быть использованы для пластин.
POS-E-ZINC. Все известные растворы могут быть использованы в процессе Descum пластин POS-E-ZINC. Для хорошего штрихового оригинала мы рекомендуем смесь порошкового талька и воды используемые как суспензия, которой мягко протирают тампоном. Промойте водой и раствором Descum с 10% раствором азотной кислоты. Промойте пластины снова и примените приготовленные защитные растворы или гуммиарабик до того как поместить в травильную машину.
Дополнительные процедуры.
Другой важный успех от использования линии Revere POS-E состоит в легком удалении фоторезиста после травления. Простое переэкспонирование всей пластины и ее проявка было объяснено. Некоторые машины оснащены двумя стальными поддонами, один для проявки экспонированных пластин, другой для удаления фоторезиста с протравленных пластин.